1

Circuite Integrate Monolitice pentru Microunde

Proiect

Tema de proiectare

Se proiectează circuite pasive realizate în tehnologia prezentată la curs (Plessey). Se foloseşte

Sonnet pentru simulare electromagnetică şi Advanced Design System pentru simulare de circuit. La

sfârşitul semestrului se predă un material care să descrie componenta implementată, analiza de

convergenţă, schema echivalentă şi detaliile tehnologice - nr. de straturi/model metal etc. - (format

hard sau electronic pdf/doc) împreună cu fişierele care implementează proiectul în Sonnet (cel mai

precis proiect din analiza de convergenţă, proiect funcţional - fişierul _X_.son + subdirectorul

corespunzător _X_ din directorul "sondata", versiunea prezentă în laborator, sau ultima versiune

evaluativă disponibilă online http://www.sonnetsoftware.com/ ) şi Advanced Design System

(directorul "*_prj" corespunzator sau arhiva *.zap a proiectului).

Fiecare temă va conţine dimensiuni fizice pentru condensatorul planar (sandwich) cu poliimidă

ca dielectric (CPI).

Grila de notare pentru proiect este descrisă în tabelul următor.

Nr. Tip componentă Nota

1 Proiect Sonnet funcţional cu dimensiunea corectă din

tema individuală

5

2 Analiză de convergenţă în Sonnet (minim 3 dimensiuni

pentru celulă), descrisă în documentele trimise

+2

3 Simulare model echivalent în ADS (proiect trimis) +1

4 Analiză de optimizare în ADS +1

5 Document +1

Tabel 1. Grilă de notare

Nivelul de precizie necesar pentru nota maximă constă în simularea temei în Sonnet utilizând o

structură cu 5 straturi (GaAs+Si+PI+Si : Fig. 7a) cu model "Normal metal" (Fig. 2) pentru

metalizările M2 şi M3. Se acceptă şi utilizarea altor nivele de detaliu în simulare, cu micşorarea

notei la utilizarea unor modele mai simple (mai rapide în simulare) sau cu creşterea acesteia în cazul

modelelor mai complexe (dar mai lente):

Nr. Descriere Variaţie

notă

Detalii

1 Utilizare structură cu trei straturi (GaAs+PI+aer) -1

2 Utilizare structură cu cinci straturi (GaAs+Si+PI+Si) 0 Fig. 7a

3 Utilizare structură cu nouă straturi (GaAs+Si+PI+Si) +1 Fig. 7b

4 Utilizare metal ideal -1

5 Utilizare model "Normal metal" 0 Fig. 2

6 Utilizare model "Thick metal" (min. 4 nivele) +2 Fig. 3,4

7 Utilizare model "Dielectric Brick" +1 Fig. 6,7b

Tabel 2. Modificare nota

http://www.sonnetsoftware.com/

2

Note:

Modele mai complicate presupun creşterea considerabilă a timpului de calcul şi a memoriei

necesare.

Unele combinaţii temă/bonus nu sunt posibile. De exemplu: numai modelarea înălţimii

metalizărilor ("Thick metal": Fig. 3,4) poate genera utilizarea a nouă straturi dielectrice (Fig.

7b) şi utilizarea modelului "Dielectric Brick" (Fig. 6,7b)

Toate componentele implică utilizarea a două nivele de metalizare (M2 şi M3) şi implică

apariţia trecerilor între nivele (via-holes)

Straturile de materiale implicate sunt reprezentate simplificat în figura 1, indicându-se de asemenea

suprafeţele pe care se depun cele două niveluri de metalizare M2 şi M3 (nitrura de siliciu se depune

deasupra acestor metalizări pentru a evita conexiuni electrice nedorite). În tabelul 3 sunt prezentate

caracteristicile materialelor utilizate.

Fig. 1. Straturi dielectrice

Nr. Material r tan [S/m] Rsq[mΩ/sq] h[μm]

1 GaAs 12.85 0.3·10-3

200

2 Si3N4 7.2 15·10-3

0.13

3 PI 3.4 55·10-3

1.8

4 M2 3.6·107 55 0.5

5 M3 3.3·107 10 3

Tabel 3. Caracteristici materiale utilizate

Pentru descrierea metalizărilor există mai multe nivele de detalii introduse, care sunt recompensate

prin bonus-uri diferite (tabelul 2). În primul rând modelul utilizat în Sonnet poate fi:

Metal Ideal (Lossless), pierderi nule, înălţime egală cu 0

Modelarea pierderilor (Normal Metal), mărimile introduse fiind cele din figura 2: , h şi

raportul de curenţi între suprafaţa de sus şi cea de jos a conductorului. Pierderile sunt

modelate prin rezistenţe de suprafaţă, raportul de curenţi depinzând de tipul de linii

introduse. Pentru linii microstrip acest raport este tipic 1.5 . În structura geometrică înălţimea

introdusă este 0 (valoarea introdusă în model e utilizată strict la calcularea impedanţelor de

suprafaţă).

Modelarea pierderilor şi a înălţimii liniei (Thick metal), mărimile introduse fiind cele din

figura 3: , h şi numărul de nivele de metalizare introduse pentru simularea înălţimii. În

structura geometrică înălţimea introdusă este cea indicată şi Sonnet realizează automat

h GaAs

h Si

h PI

h Si

M2

M3

3

secţionarea stratului dielectric de deasupra pentru a introduce efectiv folii metalice în

structură (fig. 4). Se obţin astfel câteva (NumSheets -1) suprafeţe suplimentare, şi câteva

straturi suplimentare care permit modelarea mai bună a înălţimii liniei, cu creşterea

corespunzătoare a timpului de calcul şi a memoriei necesare, ca urmare se recomandă

creşterea graduală a numărului de nivele (2 - 4 - 6) cu urmărirea necesarului de memorie şi

cu realizarea unei analize de convergenţă. În această situaţie metalizarea se extinde pe

verticală şi intră în stratul dielectric de deasupra.

Fig. 2. Modelarea pierderilor (Normal metal model)

Fig. 3. Modelarea grosimii metalizării (thick metal model)

4

Fig. 4. Modelarea grosimii metalizării (4 nivele)

Fig. 5. Geometria reală în circuitul integrat

Utilizarea modelului "thick metal" oferă apropierea cea mai mare de situaţia reală (fig. 5).

Suplimentar, înălţimea stratului de pasivizare cu nitrură de siliciu este mai mică decât a metalizărilor

implicate (0.13μm faţă de 0.5/3μm) ceea ce aduce o dificultate suplimentară la modelarea cu

precizie a depunerii nitrurii de siliciu pe metalizare. O modelare precisă impune introducerea unor

straturi suplimentare şi utilizarea modelului "Dielectric Brick". Elementul "Dielectric brick" în

Sonnet introduce un paralelipiped dintr-un material dielectric în interiorul unui alt material

dielectric, obligatoriu extins pe întreaga înălţime a stratului dielectric în care se realizează

introducerea (fig. 6). Introducerea unui bloc dielectric trebuie însoţită de impunerea unei secţionări

pe verticală a stratului dielectric corespunzător "number of Z-partitions" (în meniu, Circuit ->

Dielectric Layers -> buton Z-Parts...). Iniţial valoarea este 0 pentru straturile "normale", fără blocuri

dielectrice, dar trebuie crescut la minim 1 la introducerea unui astfel de bloc, cu creşterea

corespunzătoare a timpului de calcul şi a memoriei necesare, ca urmare se recomandă creşterea

graduală a numărului de nivele (1 - 2 etc.) cu urmărirea necesarului de memorie şi cu realizarea unei

analize de convergenţă..

5

Fig. 6. Dielectric Brick în Sonnet

Pentru modelarea nitrurii de siliciu depusă pe metalizare e necesară introducerea suplimentară a 4

straturi prin împărțirea în trei secțiuni a straturilor de poliimid şi aer (pentru a crea nivelele necesare

între care să se extindă depunerile de pe metalizare - fig. 7).

Fig. 7. Modelarea pasivizării pe metalizare (5 straturi -> 9 straturi)

Simulările în Sonnet se realizează între 1 şi 20GHz (corespunzător tehnologiei Plessey) şi se obţin

pentru utilizarea în analiza de circuit parametrii S pentru dispozitivul analizat. Parametrii S se obţin

în aplicaţia Response Viewer unde pot fi afişaţi parametrii S, dar exista şi optiunea exportării acestor

parametri (în meniu, Output > S,Y,Z Parameter File) cu alegerea optiunilor: Format =

Touchstone, Data Type = De-Embedded, Parameter = S-Param, Complex = Mag-Angle.

Note

E obligatorie creşterea incrementală a complexităţii modelului ales (nr. de straturi, nr. de

celule, model metal, introducere bloc dielectric, număr de nivele la metalizări şi în blocurile

h M3

h Si

h PI

h Si

h M2

h Si

h PI 1 = h M2 − h Si

h Si

h PI 2 = h Si

h PI 3 = h PI − h M2

h a

h GaAs

h a 1 = h M3 − h Si

h a 2 = h Si

h GaAs

Dielectric Brick

h a 3

6

dielectrice), deoarece modelarea "completă" depăşeşte cu mult resursele de timp şi RAM pe

care le aveţi la dispoziţie

Modelarea componentei se face fără introducerea elementelor suplimentare inevitabile în

practică, dar care sunt caracterizate de modele suplimentare: trecere M2/M3 pentru revenirea

pe nivelul de metalizare M3, tranziţii de la linia standard de conexiune (12/40μm) la linia

utilizată în circuit, etc. (fig. 8,9).

E necesară adăugarea opţiunii "Add reference planes" (neutilizată la laborator) pentru a

asigura obţinerea modelului componentei fără a introduce şi liniile (de lungime variabilă) de

acces (fig. 8,9).

Dimensiunile celulelor standard sunt:

o bobină: lăţimea traseelor 12μm, spaţiul între trasee 12μm, latura trecerilor 40μm,

diametru trecere (via) M3-M2 circulară cu diametru 30μm, prima spiră din jurul

trecerii are latura internă 76μm (fig. 9), linia de acces pe M3 are diverse orientări în

funcţie de numărul de sferturi de spiră din temă.

o condensatoare: lăţimea liniilor de acces la armături (M2 şi M3) este de 40μm (fig. 8)

Modelarea se încheie prin obţinerea modelului de circuit pentru componentă. Această

operaţiune se realizează de mai multe ori pe parcursul realizării proiectului. Analiza de

convergenţă presupune urmărirea variaţiei unei mărimi numerice importante din structură,

iar în cazul componentelor simulate această mărime va fi valoarea componentei (mărimea

principală, fără componentele parazite, L sau C)

Fig. 8. Modelare condensator, plane de referinţă

7

Fig. 9. Modelare bobină, plane de referinţă

Modelarea în simulatorul de circuit se realizează în ADS (Advanced Design System, versiunea 2003

sau 2009). În principiu paşii sunt:

modelarea schemei echivalente pentru componentă, prezentată în slide-urile de la curs

împreună cu relaţiile necesare pentru a calcula valorile iniţiale ale elementelor

compararea rezultatului (parametri S) cu rezultatele obţinute în Sonnet

variaţia valorilor elementelor din schema echivalentă în vederea suprapunerii în banda largă

(1-20 GHz) a celor două rezultate

o în cazul alegerii temei cu bobină există o rezonanţă a parametrului S21 la o frecvenţă

în interiorul benzii tehnologiei (1-20 GHz). Suprapunerea modelelor se face numai

până la 80-90% din această frecvenţă

Programul de simulare utilizat în laborator este Advanced Design System 2003, instalat pe sistemul

de operare XP Professional. În laborator găsiţi acest sistem pe o maşină virtuală. Detectaţi pe

desktop icoana care porneşte VMware Player. În interfaţa programului identificaţi maşina virtuală

"RF XP Professional" sau alegeţi comanda "Open a Virtual Machine" şi căutaţi maşina în directorul

(tipic) D:\DCMR\WXP_CIM.

Fig. 10. Fereastra principala ADS

8

Fereastra principală a programului - Advanced Design System (Main) (fig. 10) permite gestionarea

proiectelor (creare, ștergere, arhivare – în scopul transportului unui proiect pe un alt calculator există

implementată o metodă de arhivare format zip, rezultând un fişier cu extensia "*.zap" care va păstra

structura internă de directoare a proiectului), accesul la fișierele individuale ale proiectului. Un

proiect este constituit dintr-un director propriu cu numele "nume ales" + "_prj", aflat în directorul

ales la instalare, implicit "C:\users\default\" dar calea poate fi modificată (şi cea implicită, de

instalare, şi individual la crearea unui proiect nou).

Notă importantă: Salvarea oricărui fişier în alt director decât cel propus de program în interiorul

directorului proiectului curent (fig. 12) face ca fişierul salvat să fie decuplat de proiect, cu alterarea

funcţionalităţii (de ex. o schemă salvată în alt director nu va putea fi simulată).

Pentru a crea un proiect nou utilizaţi din meniu comanda File > New Project. Aceleaşi comenzi pot

fi aplicate utilizând butoanele din bara de comenzi a programului. În fereastra care apare se

introduce după calea deja afişata "C:\ users\default\" numele dorit al proiectului fără terminaţia

"_prj" care va fi adăugată automat de program. Din motive de compatibilitate cu versiunile

anterioare, este o cerinţă a programului ca orice cale întâlnită în proiect să nu conţină spaţii. Ca

urmare numele ales pentru proiect trebuie ales fără spaţii, ca şi calea spre director (nu se pot utiliza

locaţii ca "My Documents" sau "Desktop"). Exemplu: C:\users\default\popescu5401

Fig. 11. Crearea unui nou proiect

Se creează astfel proiectul respectiv, care este deschis automat. Implicit se creează şi o primă

schemă, într-o fereastră nouă care poate fi utilizată pentru a desena schema ce urmează a fi simulată.

În caz că această fereastră nu a fost creată se poate alege butonul pentru a genera această

schemă sau comenzile File > New Design din meniu. Este recomandat să se salveze aceasta schemă

(fereastra [popescu5401_prj] untitled1) pentru a avea un nume ce poate fi recunoscut. După

salvare fişierul corespunzător va putea fi găsit în secțiunea networks din structura proiectului

(fereastra principală - Main - fig. 10,12) în caz că îl veţi închide din greşeală.

Ca şi Sonnet, ADS este un program multi-fereastră, cu programe individuale care comunică între

ele, astfel că vă puteţi găsi frecvent în situaţia în care aveţi 4 ferestre deschise simultan (fereastra

principală, una sau mai multe scheme, simulatorul - fig. 15, programul de vizualizare a rezultatelor -

fig. 16).

9

Fig. 12. Structura internă (obligatorie) a unui proiect şi introducerea schemei

ADS are componentele grupate pe palete poziţionate în partea stângă a interfeţei, gruparea fiind în

funcţie de tipul componentei respective. Pentru introducerea schemei din această lucrare se vor

folosi paletele (fig. 13):

Lumped Components - Elemente concentrate (RLC)

Simulation S_Param - elementele de control al analizei, parametri S în acest caz, deoarece

analiza electromagnetică cu care se compară schema oferă numai aceşti parametri

Data Items - pentru introducerea rezultatelor analizei electromagnetice, un diport caracterizat

prin fişierul cu parametri S obţinut în Sonnet

Optim/Stat/Yield/DOE pentru implementarea algoritmilor de variaţie a elementelor din

schemă

Elementele comune, des întâlnite pot fi accesate din bara de butoane a programului de desenare a

schemei (masa, fire, variabile, etc.)

Fig. 13. Palete utilizate în realizarea schemei

10

Se introduce schema (din fig. 14) prezentată la curs, valorile iniţiale fiind obţinute cu ajutorul

relaţiilor de la curs (schema şi valorile sunt diferite în funcție de tema aleasă).

Fig. 14. Verificarea schemei echivalente pentru comparaţia cu rezultatul analizei electromagnetice

Nota1: Are importanţă poziţionarea corectă a porturilor astfel încât să corespundă cu notaţia

porturilor în Sonnet, mai ales la schemele asimetrice (bobină şi condensator PI). De exemplu în

figurile 8,9 în Sonnet şi 14 în ADS portul 1 (elementul Term cu "Num = 1") este pe nivelul de

metalizare M3 iar portul 2 este pe nivelul M2.

Nota2: Chiar dacă unele valori pot fi modificate direct pe schemă, se recomandă utilizarea interfeţei

proprii pentru fiecare element pentru introducerea valorilor, interfaţă accesibilă prin dublu-click pe

elementul respectiv.

Urmează simularea efectivă , sau F7 sau comanda din meniu Simulate > Simulate. Deoarece

este o simulare de circuit, cu modele corespunzătoare dispozitivelor, vă puteţi aştepta ca simularea

să dureze puţin, de ordinul secundelor. Fereastra simulatorului prezentată mai jos (fig. 15) rămâne

deschisă. Urmăriţi mesajele pentru a identifica un eventual mesaj de eroare. Dacă e cazul, încercaţi

să îl interpretaţi şi să corectaţi eroarea, în caz de insucces apelaţi la ajutorul cadrului didactic.

11

Fig. 15. Simulatorul ADS

Fig. 16. Programul de vizualizare ADS

După terminarea cu succes a analizei se va deschide fereastra de vizualizare a rezultatelor (fig. 16).

Vă interesează să reprezentaţi parametrii S pentru rezultatele din Sonnet şi pentru schema

echivalentă, pe acelaşi grafic, deci veţi alege în momentul plasării graficului rectangular pe ecran

S(1,1) şi reprezentarea modulului (în dB). Se compară reflexia la intrare, nivelul de metalizare M3,

pentru ambele scheme (portul 1 pentru schema echivalentă, portul 3 pentru parametrii S importaţi)

deci S33/S11, şi transmisia între intrare şi ieşire (ieşirea e pe nivelul de metalizare M2, portul 2 pentru

schema echivalentă, portul 4 pentru parametrii S importaţi) deci S43/S21 (fig. 17).

12

Fig. 17. Compararea simulării de circuit cu simularea electromagnetică pentru condensator PI

Scopul analizei va fi determinarea valorilor de componente care să conducă la suprapunerea cât mai

exactă a celor două grafice. Această metodă de generare a modelelor poate fi la modul general

aplicată şi dacă setul de referinţă este obţinut în urma măsurătorilor şi nu din simulări

electromagnetice.

Algoritmii de optimizare necesită:

indicarea elementelor care urmează a fi modificate,

alegerea unei metode de modificare/mod de calculare a abaterii faţă de ţintă, şi

indicarea obiectivului ce trebuie atins (goal)

Pentru a indica ce elemente trebuiesc modificate, se accesează interfaţa proprie fiecărui element (R,

L, C - fig. 18 - butonul "... Optimization ...") şi apoi interfaţa de optimizare, unde trebuie activat

("Enabled") respectiva componentă/valoare, urmat de limitarea intervalului de variaţie al

componentei (posibilitatea variaţiei nelimitate - "Unconstrained" - deşi existentă în interfaţă, nu este

recomandabilă într-un procedeu de optimizare). Ţinând cont de faptul că relaţiile de la curs oferă

deja nişte valori estimate, se poate defini în jurul lor un interval (min/max) sau o abatere procentuală

sau absolută în jurul valorii de start. Alegerea (fig. 18) a unui interval, are avantajul obţinerii unor

limite cu valoare numerică "rotundă" uşor de remarcat în situaţia în care o componentă ajunge să

13

atingă aceste valori în urma procesului de optimizare (situație care indică necesitatea schimbării

intervalului).

Fig. 18. Definirea variabilelor şi a intervalului de variaţie ADS 2003/2009

Se remarcă faptul că versiunile de ADS de după ADS 2009 beneficiază suplimentar de o variantă

îmbunătăţită de a vizualiza şi modifica variabilele utilizate în procesele de optimizare, accesibilă din

meniu Simulate > Simulation Variables Setup (fig. 19)

Fig. 19. Definirea variabilelor şi a intervalului de variaţie (ADS 2009)

După indicarea elementelor ce urmează a fi modificate, în schemă (fig. 20) acestea vor putea fi

identificate ca fiind incluse în procesul de optimizare (valoarea elementului este urmată de opt,

împreună cu indicaţii ale intervalului de variaţie). Din paleta Optim/Stat/Yield/DOE (fig. 13) se

introduce controler-ul de simulare corespunzător (OPTIM), care, împreună cu indicarea obiectivelor

procesului de optimizare, va completa schema utilizată în procesul de optimizare (fig. 20).

14

Fig. 20. Introducerea procedurii de optimizare (de suplimentat cu S22)

Pentru controler-ul de optimizare trebuie indicate (fig. 21) metoda de optimizare utilizată (pentru

problema curentă metodele Gradient sau Random sunt suficiente), variabilele şi obiectivele care se

utilizează în algoritm şi numărul (maxim) de iteraţii care trebuie realizate pentru a ajunge la rezultat.

Fig. 21. Controlul procedurii de optimizare

În secţiunea "Parameters" se specifică care sunt datele care trebuie salvate (iniţiale, intermediare,

finale), dacă programul de vizualizare asociat va fi activ în timpul simulării sau nu, dacă trebuie

realizată o analiză cu valorile finale obţinute la optimizare. Activarea salvării unor date intermediare

15

sau finale e necesară poate în etapa realizării proiectului pentru că permite urmărirea evoluţiei

procesului (permiţând eventual oprirea a unei analize care nu se desfăşoară în direcţia necesară).

Obiectivele pentru algoritmul de optimizare (pot fi oricât de multe, dar creşterea numărului acestora

mai mult decât este necesar pentru rezolvarea problemei poate încetini sau chiar face imposibilă

obţinerea unui punct optim) se introduc prin introducerea elementului "Goal" din aceeaşi paletă

Optim/Stat/Yield/DOE (fig. 13). Elementul "Goal" e caracterizat de o expresie matematică "Expr"

care nu trebuie să scadă sub valoarea "Min" sau să crească peste valoarea "Max" când variabila

independentă "RangeVar" (tipic această variabila este frecvenţa - "freq") variază între "RangeMin"

şi "RangeMax". Pot fi mai multe variabile independente dacă problema de rezolvat o necesită.

În cazul temei curente, se ţine cont de faptul că parametrii S sunt numere complexe, caracterizate de

modul şi fază, deci pentru fiecare parametru care se cere modelat în schemă apar două obiective,

unul în care expresia caracterizează abaterea modulului, un al doilea în care expresia caracterizează

abaterea fazei. Ţinând cont că schema implementată e un circuite reciproc (fără circuite active,

ferite) S12 = S21 , deci condiţiile de coincidenţă trebuie puse doar pentru 3 parametri: S11 , S21 şi S22

(S22 nu apare în fig. 20 dar intervine cu două obiective la fel ca ceilalți parametri S). Pentru a uşura

modificarea simultană a tuturor obiectivelor se foloseşte un bloc VAR pentru a defini variabile

pentru eroare modul (dmag), eroare fază (dphs), frecvenţă minimă (fmin), frecvenţă maximă (fmax).

O schimbare în acest bloc va fi automat transferată la toate cele 6 elemente obiectiv "Goal".

Valorile obţinute în urma procesului de optimizare pot fi afişate (varianta recomandată este sub

formă tabelară - fig. 22) şi pot eventual fi preluate în schemă cu comanda Simulate > Update

Optimization Values (comandă necesară doar dacă se utilizează mai departe aceste valori, în alte

condiţii fiind preferabilă păstrarea valorilor iniţiale în schemă pentru realizarea unei scheme

echivalente pentru un alt set de parametri S). Numărul de iteraţii parcurse poate furniza informaţii

importante. Astfel, optimizarea cu metode de gradient caută un minim al obiectivelor pentru toată

gama de frecvenţă, în mod normal la atingerea acestuia procedeul se opreşte. Încheierea cu succes a

acestui algoritm se poate observa dacă numărul de iteraţii parcurs e mai mic decât cel indicat la

pasul anterior (fig. 21). În caz contrar trebuie repetată simularea cu un număr mai mare de paşi, sau

cu intervale mai largi pentru componente, sau cu abatere permisă mai mare. Dimpotrivă la

optimizarea cu metode aleatorii (Random) se parcurg toţi paşii indicaţi, fără condiţii de oprire, deci

numărul de iteraţii trebuie să fie egal cu cel maxim.

Fig. 22. Valorile optimizate din schema echivalentă pentru condensator PI

Fie prin realizarea unei analize de parametri S finale (fig. 21) fie prin preluarea în schemă a valorilor

optimizate şi realizarea manuală a unei analize de parametri S, se poate verifica potrivirea între

seturile de parametri S (fig. 23) şi obţine modelul echivalent al componentei simulate/măsurate (fig.

24).

16

Fig. 23. Rezultatele optimizării pentru condensator PI

Fig. 24. Modelul final pentru condensatorul PI

Exemplu de proiectare

Să se proiecteze un condensator planar (sandwich) cu poliimidă cu latura armăturii de X μm.

Se încearcă obţinerea notei maxime, deci la nota de bază 6p se adaugă bonus-urile pentru "Utilizare

structură cu nouă straturi" (+1p, Fig. 7b), "Utilizare model Thick metal" (+2p, Fig. 3,4) şi "Utilizare

model Dielectric Brick (+1p, Fig. 6,7b).

Se desenează structura în Sonnet conform indicaţiilor anterioare. Structura de bază va fi cea

corespunzătoare complexităţii maxime ţintite (Fig. 7b), fiind relativ uşor de eliminat straturi, blocuri

dielectrice, modificat model de metal pentru a realiza analize simplificate.

O primă alegere care trebuie realizată este cea a dimensiunii celulei, deoarece desenarea se face prin

nodurile unui grilaj existent. În acest moment trebuie ţinut cont de cum va fi modificată celula pe

viitor, deoarece la modificarea celulei se schimbă şi grilajul asociat, şi e mai comod ca structura

17

desenată să se potrivească şi cu grilajele viitoare, evitând astfel desenarea din nou a structurii de

fiecare dată.

Se alege celula cea mai mare preconizată a fi utilizată ca divizor al laturii armăturii şi a altor

dimensiuni din structură, chiar dacă numerele rezultate nu vor fi tocmai "rotunde". În continuare

orice înjumătăţire a celulei va păstra desenul ancorat pe grilaj.

Fig. 25. Alegerea dimensiunii maxime a celulei

NrC

FNq

C

ENp

C

DNm

C

BNl

C

ANk

C

X

000000

NmC

BNl

C

ANk

C

X

C

XCC

ii

i

i

i

i

0

0

22

Dacă structura o impune, celulele nu trebuie neapărat să fie pătrate, discuţia fiind similară dar

separată pe cele două direcţii, apărând două grade de libertate suplimentare

( jiiCCC yx ,;, 000 ):

NsC

ENr

C

DNq

C

XNp

C

FNm

C

BNl

C

ANk

C

Xyyyxxxx

0000000

,,,,,

NjiCCCC jyyjixx

i ,;2;2 00

Se reaminteşte puterea "magică" a puterilor lui 2 în ceea ce priveşte alegerea unei dimensiuni

iniţiale. Se recomandă îndeplinirea, dacă e posibil, ca fiecare din valorile întregi ale rapoartelor din

relaţiile anterioare (k, l, m, p, q, r, s) să fie o putere a lui 2. În acest caz, dacă alegerea iniţială se

dovedeşte a fi prea mică, este posibilă dublarea dimensiunii celulei de un număr de ori (variabil) cu

păstrarea condiţiei de ancorare a desenului structurii pe nodurile grilajului.

F

X

X A B

D

E

18

tiNkC

X

C

XCCk

C

Xi

t

i

i

i

i

t

;2

2

222

0

0

0

Regulile amintite creează o serie geometrică pentru dimensiunile celulei, utilizând 2 ca bază. Orice

număr întreg poate fi folosit ca bază, dar utilizarea unui număr mai mare duce la obţinerea unei

scăderi a celulei mult prea rapidă care creşte prea brutal memoria şi timpul necesare pentru analiză

(ex: 1,2,4,8,16… / 1,3,9,27,81…)

Notă importantă: Sub nici un motiv nu se dezactivează opţiunea Snap (din meniu Tools > Snap

Setup sau - mai uşor de apăsat din greşeală - din butonul din bară). Dacă nu se poate desena

dimensiunea dorită pe grilajul curent, e un semn că alegerea iniţială a celulei a fost greşită.

Pentru schema realizată se alege celula cea mai mare de dimensiune 8μm, pătrată, cu îndeplinirea

condiţiilor anterioare. Vom putea apoi micşora celula prin înjumătăţire (4μm, 2μm, 1μm, 0.5μm)

fără a mai fi necesară redesenarea structurii. Se utilizează frecvent comanda View > View 3D pentru

a verifica poziţionarea corectă a elementelor (Fig. 26 - după direcţia Z scala este exagerată pentru

observarea detaliilor subţiri).

Fig. 26. Structura desenată: 9 straturi (8 nivele), Thick Metal, Dielectric Brick

Urmează realizarea unei analize de convergenţă pentru a determina nivelul de detalii necesar de a fi

introdus în analiză. Mărimea primară de interes pentru dispozitivul simulat este capacitatea primară.

Pentru fiecare analiză electromagnetică se vor salva parametri S într-un fişier Touchstone care va fi

folosit în ADS pentru optimizarea schemei echivalente şi obţinerea parametrilor din schemă.

Valorile calculate cu relațiile din curs pentru modelul echivalent (valorile de start din ADS) sunt

cele din figura 14:

pFMCpFMCRES

nHMLnHMLpFPRIMEC

0101.03_,0673.02_,5418.1

0375.03_,0186.02_,8459.0_

19

E momentul să menţionăm că ţinta analizelor nu va fi să obţinem exact aceste valori prin simulare,

deoarece caracteristicile tehnologiei Plessey ar putea să fie puţin diferite de caracteristicile

menţionate în tabelul 3.

Investigarea efectului modelării metalizărilor se face pentru o structură cu celula de 4μm, cu

modelul Thick metal cu un număr variabil de folii metalice (NS = 2,4,8,16), pe o structură fără

utilizarea blocurilor dielectrice (Si3N4 aplicat pe metalizări) pentru accelerarea analizelor. Vom

verifica şi situaţia utilizării unor modele mai puţin performante pentru metalizări (NS = 0, metalizare

ideală - LossLess - sau normală - Normal Metal). Pentru aceste modele, trebuie să ţinem cont de

dispariţia înălţimii metalizărilor, care nu sunt neglijabile, acest lucru putând fi realizat prin

eliminarea straturilor de dielectric de înălţime h PI 1 = h M2 − h Si şi h a 1 = h M3 − h Si din figura 7b.

Deoarece mărimea capacităţii unui condensator planar depinde explicit de distanţa dintre armături,

în acest mod asigurăm cu aproximaţie aceeaşi înălţime de poliimidă între acestea. Rezultatele

analizei de convergenţă sunt prezentate în tabelul 4 şi figura 27.

Nr Cell [μm] NS NZ Mem. [MB] Timp/f [s] C_PRIME [pF] Obs.

1 4 0 0 8 1 0.8155 0 (LL)

2 4 0 0 8 1 0.8157 0 (NM)

3 4 2 0 49 6 0.8491 2 (TM)

4 4 4 0 94 13 0.8492 4 (TM)

5 4 8 0 226 42 0.8492 8 (TM)

6 4 16 0 662 170 0.8493 16 (TM)

Tabel 4. Analiză de convergenţă, caracteristici metalizări

Fig. 27. Analiză de convergenţă, caracteristici metalizări

Analiza de convergenţă arată importanţa utilizării modelului "Thick Metal", dar demonstrează de

asemenea faptul ca un număr de două nivele de metalizare ar fi suficiente pentru structura analizată

(cu mai multe nivele apare o variaţie a capacităţii dar nu este esenţială). Vom alege totuşi 4 nivele de

metalizare pentru a îndeplini condiţiile de obţinere a punctelor bonus.

20

Investigarea dimensiunii celulei necesară pentru analiză va fi făcută de asemenea în lipsa blocurilor

dielectrice aplicate pe metalizări pentru accelerarea analizelor. Rezultatele sunt prezentate în tabelul

5 şi figura 28. Se observă că variaţia capacităţii determinate este de ordinul 0.5% între celula de 8μm

şi cea de 0.5μm deci o dimensiune de 8μm ar putea fi suficientă. Totuşi celulele fixate în planele de

metalizare vor genera secţionare corespunzătoare şi a blocurilor de dielectric care vor fi aplicate pe

metalizări. Avem anumite informaţii legate de necesităţile de memorie şi timp de calcul şi o

indicaţie relativ la valoarea aproximativă a celulei care trebuie utilizată (~4μm) dar o decizie

definitivă trebuie luată cu structura completă (inclusiv cu blocurile de dielectric)

Nr Cell [μm] NS NZ Mem. [MB] Timp/f [s] C_PRIME [pF]

1 8 4 0 46 6 0.8483

2 4 4 0 94 13 0.8492

3 2 4 0 196 42 0.8506

4 1 4 0 422 175 0.8519

5 0.5 4 0 910 795 0.8530

Tabel 5. Analiză de convergenţă, dimensiune celulă, fără "Dielectric Brick"

Fig. 28. Analiză de convergenţă, dimensiune celulă, fără "Dielectric Brick"

Investigarea efectului partiţionării pe verticală a straturilor de dielectric care vor conţine blocuri

dintr-un alt dielectric (model "Dielectric Brick") se face cu o dimensiune a celulei mare (8μm),

pentru a nu genera analize excesiv de lungi şi consum excesiv de mare de memorie. Rezultatele sunt

prezentate în tabelul 6 şi figura 29. Se observă importanţa deosebită pe care o are introducerea

blocurilor de dielectric (în principal stratul depus pe metalizarea M2 care joacă rol de dielectric

dintre armăturile condensatorului), în schimb pentru această structură particulară partiţionarea

suplimentară pe verticală a blocului în 2 sau mai multe nivele nu aduce deloc modificarea

rezultatelor. Deci blocurile de dielectric vor trebui să apară dar nu este necesar să fie partiţionate

suplimentar, e suficient Z Parts = 1.

21

Nr Cell [μm] NS NZ Mem. [MB] Timp/f [s] C_PRIME [pF] Obs.

1 8 4 0 46 6 0.8483 fără Dielectric Brick

2 8 4 1 150 13 0.8882

3 8 4 2 272 22 0.8882

4 8 4 4 629 60 0.8882

Tabel 6. Analiză de convergenţă, partiţionare pe verticală a "Dielectric Brick" (Z Parts)

Fig. 29. Analiză de convergenţă, partiţionare pe verticală a "Dielectric Brick" (Z Parts)

În acest moment se cunoaște că e nevoie de metalizare "Thick Metal" cu 4 nivele de metalizare,

blocuri de dielectric fără secţionare suplimentară (Z Parts = 1) şi o dimensiune a celulei de ordinul

8-4-2μm. O analiză de convergenţă pe structura completă (figura 26) este necesară pentru o decizie

finală asupra dimensiunii celulei. Rezultatele unei astfel de analize sunt prezentate în tabelul 7 şi

figura 30. Se utilizează mărimile (Num. Sheets şi Z Parts) determinate anterior şi se variază

dimensiunea celulei. Variaţia se opreşte la celulă pătrată cu latura de 2μm, necesarul de memorie

pentru a realiza analiza cu o celulă de 1μm fiind prea mare pentru a efectua calculele (61565MB).

Variaţia capacităţii primare de la 8 la 2μm este foarte mică (0.24%) deci inclusiv analiza cu celulă

de 8μm oferă valoarea acestei capacităţi cu precizia dorită.

Nr Cell [μm] NS NZ Mem. [MB] Timp/f [s] C_PRIME [pF]

1 8 4 1 150 13 0.8882

2 4 4 1 724 80 0.889

3 2 4 1 5540 2012 0.8904

Tabel 7. Analiză de convergenţă, dimensiune celulă, cu "Dielectric Brick"

22

Fig. 30. Analiză de convergenţă, dimensiune celulă, cu "Dielectric Brick"

Putem păstra ca analiză finală pe cea corespunzătoare celulei de 2μm deoarece:

a fost deja realizată

chiar dacă precizia de determinare a capacităţii nu a fost prea mult îmbunătăţită, un efect se

poate observa la nivelul elementelor parazite din schemă.

Reprezentarea valorilor elementelor parazite pentru toate analizele menţionate anterior sunt

prezentate în tabelul 8 şi figura 31.

Nr Cell [μm] NS NZ LM2 LM3 CM2 CM3 R

1 8 4 0 0.02998 0.04836 0.06003 0.002304 1.459

2 4 4 0 0.02969 0.04786 0.06016 0.002467 1.47

3 2 4 0 0.0295 0.0476 0.06019 0.002602 1.476

4 1 4 0 0.02958 0.04747 0.06021 0.002671 1.485

5 4 0 0 0.02721 0.05065 0.06088 0.001595 1.648

6 4 0 0 0.03019 0.04919 0.06013 0.001923 1.371

7 4 0 0 0.02745 0.05059 0.06093 0.001625 1.734

8 4 0 0 0.0304 0.04916 0.06018 0.001952 1.455

9 4 2 0 0.02989 0.04784 0.06014 0.002482 1.475

10 4 8 0 0.0297 0.04778 0.06018 0.002467 1.487

11 4 16 0 0.02977 0.04773 0.06019 0.002467 1.512

12 8 4 1 0.03094 0.04772 0.05982 0.002447 1.366

13 4 4 1 0.03067 0.04721 0.05996 0.002613 1.378

14 2 4 1 0.03046 0.04697 0.06001 0.00273 1.383

15 8 4 2 0.03094 0.04772 0.05982 0.002447 1.366

16 8 4 4 0.03094 0.04772 0.05982 0.002447 1.366

17 0.5 4 0 0.02963 0.04738 0.06023 0.002692 1.491

Tabel 8. Analiză de convergenţă, valori elemente parazite

23

Fig. 31. Analiză de convergenţă, valori elemente parazite

Se observă că valorile elementelor parazite sunt consistente între analize pentru elementele reactive,

cu excepţia pierderilor în structură caracterizate de rezistenţa serie, a cărei valori depind destul de

mult de modelarea pierderilor prin metalizări şi de prezenţa pasivizărilor de Si3N4 aplicate pe

metalizări (reprezentare pe axa secundară din dreapta în fig. 31). Mai ales valoarea rezistenţei

beneficiază de micşorarea celulei la 2μm (index 14 în tabelul 8), rezistenţa crescând cu 1.25% faţă

de analiza cu 8μm celulă.

Note finale

Pentru interpretarea timpului necesar pentru analiză şi scalarea acestui exemplu la sistemul

de calcul propriu: analizele au fost realizate pe un sistem cu două microprocesoare fizice

X5450 @ 3.00GHz, fiecare microprocesor având 4 nuclee fizice distincte. Fiecare din cele 8

nuclee a fost folosit în proporţie de 100% pe parcursul analizelor. Memoria fizică prezentă:

FB-DDR2, 32GB @ 333MHz, sistem de operare Windows 7, 64 biţi.

Optimizările în Advanced Design System au fost realizate folosind metoda "Gradient",

Number of Iterations:1000, dmag:0.01, dphs:0.1 . Valorile obţinute nu sunt mai precise (în

limita atinsă la analize: 1%) şi nu justifică obligatoriu alegerea acestei metode pentru

optimizare. A fost aleasă deoarece spre deosebire de utilizarea analizei "Random" rezultatele

sunt repetabile (fără implicarea numerelor aleatorii). În general se poate utiliza fără probleme

"Random" cu un număr mai mare de iteraţii (10000) deoarece algoritmul de optimizare este

mult mai rapid.

Majoritatea timpului total de analiză a fost folosit pentru cele două analize cu necesar de

memorie ridicat, ca urmare recomandarea de a realiza majoritatea analizelor de convergenţă

pe modele simplificate la maxim oferă un câştig de timp destul de ridicat. În exemplul

prezentat se observă că la investigarea unui parametru (C, NS, NZ) ceilalţi doi sunt reduşi la

minimul posibil.

Respectarea iniţială a indicaţiilor cu privire la alegerea dimensiunilor celulei în funcţie de

dimensiunile fizice din circuit şi relativ, pe cât posibil, la puterile lui 2, reduce extrem de

24

mult timpul consumat cu desenarea schemei pentru multiplele structuri din analiza de

convergenţă.

Simulatorul din Sonnet are prevăzută funcţionalitatea de rulare automată, succesivă a mai

multor proiecte (fig. 32 - butonul Batch List). Se pot salva mai multe proiecte fără a realiza şi

simularea (diverse dimensiuni de celulă, număr de straturi, de nivele de metalizare etc.), iar

cu "Add Project" se pot adăuga în listă, chiar şi în timp ce un alt proiect este analizat. Acest

lucru oferă posibilitatea de a folosi timpul în care calculatorul simulează un proiect pentru a

desena un altul şi a-l adăuga la listă ş.a.m.d. (! util mai ales dacă simulatorul nu reuşeşte să

folosească 100% toate procesoare existente)

Informaţiile despre Memorie/Timp se pot obţine din simulator > butonul "Timing Info" sau

după simulare, din orice program din suita Sonnet din meniu: "Project > View Log > Timing

Info"

Fig. 32. Simulator Sonnet em, listă de proiecte (Batch List)