Electrodeposicion del Cu

El principio de los métodos de recubrimiento electrolítico o químicos, también denominados galvánicos, consiste en depositar por vía electroquímica, finas capas de metal sobre la superficie de una pieza sumergida en una solución de agua con iones metálicos o electrolito, al conectar una fuente externa de corriente directa. Las capas formadas generalmente son de un espesor entre 1 y 100 µm. El metal que constituye la capa se encuentra en el electrolito en forma de iones. También existen métodos de recubrimiento sin corriente externa, basados en procesos de oxidación o reducción que, sin embargo, son de menor importancia.

Las capas de recubrimiento se depositan sobre una superficie metálica o no metálica con ciertas propiedades, para darle características que ésta por sí misma no tiene, o bien, para fabricar ciertas piezas con determinada presentación en el acabado. Si el objeto no es conductor, se le hace conductivo, por ejemplo, en la galvanización de plásticos.

RECUBRIMIENTOS ELECTROLITICOS

Electrolisis: es un fenómeno por el cual se produce una reacción quimica mediante la aplicación de energía externa. Es un proceso no espontáneo.

Consiste :De electrodos( ánodo y cátodo: éstos pueden ser activos o inertes), un electrolito (CuSO4) ,y una fuente de voltaje

CELDA ELECTROLITICA CON ELECTRODOS INERTES

En el ánodo(+) se da oxidación

del agua liberándose

oxigeno. Debería

depositarse el oxianión SO4 2+pero no así debido a que tiene menor potencial de

oxidación En el cátodo se

deposita en cobre Cu 2+. Como finas

laminas

ELECTROLISIS CON ELECTRODOS ACTIVOS

En el ánodo se libera cationes de Cu2+ éstos viajan por el electrolito y se deposita en le cátodo.

El en ánodo se da una pérdida de masa. Dicha masa la gana el cátodo.

Siempre los electrones viajan del ánodo al cátodo.