8/17/2019 Electrodeposicion Del Cu r

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Electrodeposicion del Cu

El principio de los métodos de recubrimientoelectrolítico o químicos, tambiéndenominados galvánicos, consiste endepositar por vía electroquímica, fnas capasde metal sobre la superfcie de una piezasumergida en una solución de agua con ionesmetálicos o electrolito, al conectar una uenteexterna de corriente directa. as capasormadas generalmente son de un espesorentre ! " !## $m. El metal que constitu"e la

capa se encuentra en el electrolito en ormade iones. %ambién existen métodos derecubrimiento sin corriente externa, basadosen procesos de oxidación o reducción que, sinembargo, son de menor importancia.

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as capas de recubrimiento sedepositan sobre una superfcie

metálica o no metálica con ciertaspropiedades, para darle característicasque ésta por sí misma no tiene, o bien,para abricar ciertas piezas condeterminada presentación en el

acabado. &i el ob'eto no es conductor,se le (ace conductivo, por e'emplo, enla galvanización de plásticos.

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)EC*+)-E%/& EEC%)/%C/&

 Electrolisis: es un enómeno por elcual se produce una reacción quimica

mediante la aplicación de energíaexterna. Es un proceso no espontáneo.

 Consiste :

0e electrodos1 ánodo " cátodo2 éstos

pueden ser activos o inertes3, unelectrolito 1Cu&/43 ," una uente de

volta'e

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CE05 EEC%)/%C5 C/EEC%)/0/& E)%E&

En el ánodo163se da oxidación

del agualiberándose

oxigeno.0ebería

depositarse eloxianión &/476pero no asídebido a quetiene menorpotencial de

oxidación

En el cátodo se

deposita encobre Cu 2+. Como fnas

laminas

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EEC%)/&& C/ EEC%)/0/&5C%8/&

En el ánodo se liberacationes de Cu76éstos via'an por elelectrolito " se

deposita en lecátodo.

El en ánodo se dauna pérdida demasa. 0ic(a masa la

gana el cátodo. &iempre los

electrones via'an delánodo al cátodo.