8/16/2019 Electrodeposicion Del Cu 2

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Electrodeposicion del Cu

El principio de los métodos de recubrimientoelectrolítico o químicos, tambiéndenominados galvánicos, consiste endepositar por vía electroquímica, fnas capasde metal sobre la superfcie de una piezasumergida en una solución de agua coniones metálicos o electrolito, al conectar unauente externa de corriente directa. Lascapas ormadas generalmente son de unespesor entre ! "" #m. El metal queconstitu!e la capa se encuentra en el

electrolito en orma de iones. $ambiénexisten métodos de recubrimiento sincorriente externa, basados en procesos deoxidación o reducción que, sin embargo, sonde menor importancia.

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Las capas de recubrimiento se depositansobre una superfcie metálica o no

metálica con ciertas propiedades, paradarle características que ésta por símisma no tiene, o bien, para abricarciertas piezas con determinadapresentación en el acabado. %i el ob&eto

no es conductor, se le 'ace conductivo,por e&emplo, en la galvanización deplásticos.

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(E)*+(-E$/% ELE)$(/L$)/%

Electrolisis: es un enómeno por elcual se produce una reacción quimica

mediante la aplicación de energíaexterna. Es un proceso no espontáneo.

Consiste :

0e electrodos1 ánodo ! cátodo2 éstos

pueden ser activos o inertes3, unelectrolito 1)u%/43 ,! una uente devolta&e

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ELE)$(/L%% )/ ELE)$(/0/%5)$8/%

En el ánodo se liberacationes de )u76éstos via&an por elelectrolito ! se

deposita en lecátodo.

El en ánodo se dauna pérdida demasa. 0ic'a masa la

gana el cátodo. %iempre los

electrones via&an delánodo al cátodo.