realizarea fizică a dispozitivelor...

24
Curs 11 2011/2012

Upload: others

Post on 24-Sep-2019

4 views

Category:

Documents


0 download

TRANSCRIPT

Page 1: Realizarea fizică a dispozitivelor optoeletronicerf-opto.etti.tuiasi.ro/docs/files/Curs_11_2011_2012.pdf · Jonctiunea pn este polarizata invers Lumina este absorbita in regiunea

Curs 11

2011/2012

Page 2: Realizarea fizică a dispozitivelor optoeletronicerf-opto.etti.tuiasi.ro/docs/files/Curs_11_2011_2012.pdf · Jonctiunea pn este polarizata invers Lumina este absorbita in regiunea

Capitolul 10

Page 3: Realizarea fizică a dispozitivelor optoeletronicerf-opto.etti.tuiasi.ro/docs/files/Curs_11_2011_2012.pdf · Jonctiunea pn este polarizata invers Lumina este absorbita in regiunea

Cerinte◦ eficienta crescuta a conversiei optic/electric◦ zgomot redus◦ raspuns uniform la diferite lungimi de unda◦ viteza de raspuns ridicata◦ liniaritate

Principii de operare◦ fotoconductori◦ fototranzistori◦ fotodiode pn

pin

pin cu multiplicare in avalansa

Schottky

oPRR

oBB PII

oPII

Page 4: Realizarea fizică a dispozitivelor optoeletronicerf-opto.etti.tuiasi.ro/docs/files/Curs_11_2011_2012.pdf · Jonctiunea pn este polarizata invers Lumina este absorbita in regiunea

Principiu

Recent dispozitive Metal Semiconductor Metal (filtru interdigital) au inceput sa fie utilizatepentru usurinta de fabricare si integrare in aplicatii mai putin pretentioase

Page 5: Realizarea fizică a dispozitivelor optoeletronicerf-opto.etti.tuiasi.ro/docs/files/Curs_11_2011_2012.pdf · Jonctiunea pn este polarizata invers Lumina este absorbita in regiunea

Jonctiunea pn estepolarizata invers

Lumina este absorbitain regiunea golita de purtatori, un fotonabsorbit generand o pereche electron-gol

Sarcinile sunt separate de campul electric existent in regiunea golita si genereazaun curent in circuitul exterior

Page 6: Realizarea fizică a dispozitivelor optoeletronicerf-opto.etti.tuiasi.ro/docs/files/Curs_11_2011_2012.pdf · Jonctiunea pn este polarizata invers Lumina este absorbita in regiunea

Energia necesara pentru eliberarea uneiperechi electron gol

Lungime de unda de taiere

Puterea optica absorbita in zona golita de purtatori (w) aflata la o adincime d in interiorul dispozitivului

gEhc

h

gE

hcmax

fwd

i ReePwP 11

Page 7: Realizarea fizică a dispozitivelor optoeletronicerf-opto.etti.tuiasi.ro/docs/files/Curs_11_2011_2012.pdf · Jonctiunea pn este polarizata invers Lumina este absorbita in regiunea

Coeficientul de absorbtie pentru materialeleuzuale

Valoarea mare a coeficientului de absorbtiela lungimi de unda reduseimplica scaderearesponzivitatii

Comportarea tuturormaterialelor este de tip trece banda

Page 8: Realizarea fizică a dispozitivelor optoeletronicerf-opto.etti.tuiasi.ro/docs/files/Curs_11_2011_2012.pdf · Jonctiunea pn este polarizata invers Lumina este absorbita in regiunea

Eficienta cuantica - raportul dintre numărul de perechi electron-gol generate şi numărul de fotoni incidenţi

In unitatea de timp numarul de fotonidepinde de puterea optica, iar numarul de electroni impune curentul generat

Responzivitatea

f

e

n

n

hP

eI

hc

e

P

IR

o

W

AmR 8.0

Page 9: Realizarea fizică a dispozitivelor optoeletronicerf-opto.etti.tuiasi.ro/docs/files/Curs_11_2011_2012.pdf · Jonctiunea pn este polarizata invers Lumina este absorbita in regiunea
Page 10: Realizarea fizică a dispozitivelor optoeletronicerf-opto.etti.tuiasi.ro/docs/files/Curs_11_2011_2012.pdf · Jonctiunea pn este polarizata invers Lumina este absorbita in regiunea

Dezavantajul major pentruGe este curentul de intuneric mare

Material Eg (eV )

GaAs 1.43

GaSb 0.73

GaAso.88Sbo.12 1.15

Ge 0.67

InAs 0.35

InP 1.35

Ino.53Gao.47As 0.75

Ino.14Gao.86 As 1.15

Si 1.14

Material λ [μm] Responsivitate [A/W] Viteza [ns] Curent de intuneric

Si 0.85 0.55 3 1

Si 0.65 0.4 3 1

InGaAs 1.3-1.6 0.95 0.2 3

Ge 1.55 0.9 3 66

Page 11: Realizarea fizică a dispozitivelor optoeletronicerf-opto.etti.tuiasi.ro/docs/files/Curs_11_2011_2012.pdf · Jonctiunea pn este polarizata invers Lumina este absorbita in regiunea

Curentul invers al jonctiunii p-n, datoratagitatiei termice, prezent in absentailuminarii

Constituie o importanta sursa de zgomot(limiteaza aplicatiile Ge)

◦ β – coeficient de idealitate

◦ R0 – rezistenta la intuneric a diodei (inversproportionala cu aria diodei)

0eR

kTII SD

21

Page 12: Realizarea fizică a dispozitivelor optoeletronicerf-opto.etti.tuiasi.ro/docs/files/Curs_11_2011_2012.pdf · Jonctiunea pn este polarizata invers Lumina este absorbita in regiunea

Existenta campului electric in regiuneagolita de purtatori face ca eventualiipurtatori generati optic sa fie acceleratispre terminale pentru constituiureafotocurentului

Problemele utilizarii diodei pnpolarizate invers ca fotodetector suntgenerate de adancimea extrem de mica a zonei golite (w)

Puterea optica absorbita in interiorul acestei zone e in consecinta redusa

Puratorii generati inafara zonei de golire ajung eventual in zona golita si vor fi accelerati spre terminale, darviteza fenomenului este prea redusa pentru aplicatii in comunicatii

Page 13: Realizarea fizică a dispozitivelor optoeletronicerf-opto.etti.tuiasi.ro/docs/files/Curs_11_2011_2012.pdf · Jonctiunea pn este polarizata invers Lumina este absorbita in regiunea

Solutia consta in introducerea unui stratfoarte slab dopat (intrinsec) intre cele douazone ale diodei

◦ creste volumul de absorbtie deci crestesensibilitatea fotodiodei

◦ capacitatea jonctiuniiscade ducand la crestereavitezei

◦ este favorizat curentul de conductie (mai rapid) fatade cel de difuzie

Page 14: Realizarea fizică a dispozitivelor optoeletronicerf-opto.etti.tuiasi.ro/docs/files/Curs_11_2011_2012.pdf · Jonctiunea pn este polarizata invers Lumina este absorbita in regiunea

tipic, adancimea stratului intrinsec este de 20-50μm

cresterea suplimentara a adancimii ar duce la creterea timpului de tranzit◦ w=20μm -> Ttr 0.2ns

Page 15: Realizarea fizică a dispozitivelor optoeletronicerf-opto.etti.tuiasi.ro/docs/files/Curs_11_2011_2012.pdf · Jonctiunea pn este polarizata invers Lumina este absorbita in regiunea

se bazeaza pe jonctiunea metal semiconductor

vitezele de lucru sunt mult mai mari, metalulfiind un bun conductor realizeaza evacuareamult mai rapida a purtatorilor din jonctiune

permite utilizarea unor materiale cu eficientamai mare dar care nu pot fi dopate simultan p si n pentru utilizare in PIN

modulatie cu 100GHzposibila

Page 16: Realizarea fizică a dispozitivelor optoeletronicerf-opto.etti.tuiasi.ro/docs/files/Curs_11_2011_2012.pdf · Jonctiunea pn este polarizata invers Lumina este absorbita in regiunea

se utilizeaza tipic◦ InGaAsP pe substrat InP

◦ GaAlAsSb pe substrat GaSb

Page 17: Realizarea fizică a dispozitivelor optoeletronicerf-opto.etti.tuiasi.ro/docs/files/Curs_11_2011_2012.pdf · Jonctiunea pn este polarizata invers Lumina este absorbita in regiunea
Page 18: Realizarea fizică a dispozitivelor optoeletronicerf-opto.etti.tuiasi.ro/docs/files/Curs_11_2011_2012.pdf · Jonctiunea pn este polarizata invers Lumina este absorbita in regiunea

daca viteza purtatorilor este suficient de mare genereaza noi perechi electron/gol prinionizare de impact

amplificarea are loc in acelasi timp cu detectia

Page 19: Realizarea fizică a dispozitivelor optoeletronicerf-opto.etti.tuiasi.ro/docs/files/Curs_11_2011_2012.pdf · Jonctiunea pn este polarizata invers Lumina este absorbita in regiunea

campuri electrice de ordinul minim: 3x105

V/m, tipic: 106 V/m sunt necesare

aceste campuri sunt generate de tensiuniinverse de polarizare de ordinul 50-300V

structura este modificata pentru concentrareacampului in zona de accelerare

Page 20: Realizarea fizică a dispozitivelor optoeletronicerf-opto.etti.tuiasi.ro/docs/files/Curs_11_2011_2012.pdf · Jonctiunea pn este polarizata invers Lumina este absorbita in regiunea
Page 21: Realizarea fizică a dispozitivelor optoeletronicerf-opto.etti.tuiasi.ro/docs/files/Curs_11_2011_2012.pdf · Jonctiunea pn este polarizata invers Lumina este absorbita in regiunea

factorul de multiplicare caracterizeazaamplificarea fotocurentului generat

Responzivitatea

I

IM M

Mhc

e

P

IR

o

Page 22: Realizarea fizică a dispozitivelor optoeletronicerf-opto.etti.tuiasi.ro/docs/files/Curs_11_2011_2012.pdf · Jonctiunea pn este polarizata invers Lumina este absorbita in regiunea

tensiuni inverse de polarizare mari cresccomplexitatea circuitului

diodele cu multiplicare in avalansa suntintrinsec mai zgomotoase (curentul de zgomot este amplificat de asemenea)

factorul de multiplicitate are o componentaaleatorie (zgomot suplimentar)

viteza mai redusa (timp de generare al avalansei)

Page 23: Realizarea fizică a dispozitivelor optoeletronicerf-opto.etti.tuiasi.ro/docs/files/Curs_11_2011_2012.pdf · Jonctiunea pn este polarizata invers Lumina este absorbita in regiunea
Page 24: Realizarea fizică a dispozitivelor optoeletronicerf-opto.etti.tuiasi.ro/docs/files/Curs_11_2011_2012.pdf · Jonctiunea pn este polarizata invers Lumina este absorbita in regiunea

Laboratorul de microunde si optoelectronica

http://rf-opto.etti.tuiasi.ro

[email protected]